真空鍍膜機主要指一類需要專門在較高真空度下進行鍍膜的高精密設備，其中鍍膜工藝具體包括真空電阻加熱蒸發、電子槍加熱蒸發、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積、離子束濺射等多種，但主要還是分為 蒸發沉積鍍膜 和 濺射沉積鍍膜 兩種。
需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。
蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。
對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過程，最終形成薄膜。
我司自主研發的系列鍍膜機適用于在玻璃、樹脂、陶瓷、金屬等各類材質表面鍍制AR膜、硬質膜、濾光膜、高反膜等各類薄膜，具有高生產效率、高穩定性、高重復性的特點，適合大批量連續作業的需求。
負責產品研發及生產的總工程師，來自日本頂級鍍膜設備制造企業，擁有多年各類全自動光學真空鍍膜設備的開發及制造經驗。全系列產品在南陽工廠完成整體生產及出廠調試，與國外同類產品相比，具有貼近用戶需求、性價比高、售后服務及時等明顯優勢。
